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簡要描述：淘淘西直銷！日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100Φ4英寸兼容觸摸屏式前裝式真空工藝快速加熱爐RTP-100RTP-100前裝式真空工藝高速退火爐RTP-100 前裝式真空工藝快速退火爐設備尺寸：505 x 505 x 570 mm (WxDxH)設備重量：約 55 kg
產(chǎn)品型號：RTP100廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-05-17訪 問 量：240淘淘西直銷！日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100、
淘淘西直銷！日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100
Φ4英寸兼容觸摸屏式前裝式
真空工藝快速加熱爐RTP-100
RTP-100前裝式真空工藝高速退火爐
RTP-100 前裝式
真空工藝快速退火爐
設備尺寸：505 x 505 x 570 mm (WxDxH)
設備重量：約 55 kg
非常適合原型開發(fā)。
加熱區(qū)域的頂部和底部配備IR（紅外線）型加熱器，最高溫度可達1200℃，并可高速升溫150K/秒。采用氮氣吹掃方式的冷卻方式，降溫速度高達190K/min。（1200至400℃，此后25K/min。）
觸摸屏用于輪廓程序控制。
除了創(chuàng)建溫度控制、氣體流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您還可以保存過程數(shù)據(jù)。
它可以加熱最大100x100mm或Φ100mm的物體。
盡管桌面尺寸可實現(xiàn)最高溫度1200℃的真空工藝快速加熱爐。
兼容氮氣吹掃、氧氣吹掃、合成氣（氫氣+氮氣）吹掃等。
由于工作區(qū)域是氣體保護的，因此可用于存在污染問題的工藝或其他關鍵工藝。
加熱由頂部和底部的 24 個 IR（紅外線）加熱器進行，可實現(xiàn)準確、快速的加熱。
與適當?shù)恼婵毡媒Y合，可實現(xiàn)高達0.1 Pa (10 -3 hPa)的真空環(huán)境。
兼容氮氣吹掃法的溫度下降
標準配備觸摸屏顯示器。通過觸摸操作輕松操作
主機上最多可注冊50個50段（行）的溫度控制程序。
配備高速紅外線 (IR) 加熱器，最高可升溫至每分鐘 9000°C 或更高（每秒 150°C 或更高）。當然，也可以以輪廓程序的任何速率升高溫度。另外，在降溫過程中，通過向腔室中供應冷卻氮氣，可以安全地進行冷卻，而不會損壞處理后的器件表面。
最多可以安裝4個MFC（質(zhì)量流量控制器）系統(tǒng)，因此除了真空或大氣環(huán)境之外，還可以在任何工藝氣體吹掃環(huán)境中進行退火。不僅可以在配置文件程序中注冊各種氣體系統(tǒng)的開/關控制，還可以注冊其流量，從而可以輕松再現(xiàn)各種環(huán)境。
標配7英寸觸摸屏。任何控制配置文件程序都可以在觸摸面板上創(chuàng)建和保存，無需單獨的外部 PC。最多可注冊并執(zhí)行 50 個 50 個步驟的溫度控制程序。此外，標準配置還包括將實驗數(shù)據(jù)保存到 USB 存儲器的功能。通過 USB 存儲器也可以輕松地將實驗數(shù)據(jù)移動到任何 PC。
腔室的開啟和關閉采用手動前裝方式。將晶圓放在托盤上后，向后滑動托盤并將控制桿移至鎖定位置。
前裝式真空工藝快速加熱爐（RTP 型）專為尋求緊湊、價格實惠的設備的客戶而設計。除了多功能晶圓表面處理之外，該設備還可以靈活支持漿料燒結和有機成膜等多種應用。
有效加熱面積為100x100x18mm，但通過使用可選的適配器，它可以支持Φ50mm和Φ75mm的晶圓。
標準配備1條質(zhì)量流量控制器（MFC）氣體管線，可通過程序（物體）自由設定氣體流量并使用。總共可以添加4個氣體模塊，并且還可以使用質(zhì)量流量控制器來控制氣體流量。
腔室外殼可承受高達0.1Pa（10-3mbar）的真空度，因此通過適當選擇要連接的真空泵，它也可以在高真空環(huán)境中使用。此外，該設備最重要的一點是它可以使用 IR（紅外）加熱器處理高達 70K/秒的高溫升溫速率。
配置文件程序由新型觸摸屏控制器精確控制。您可以在觸摸屏控制器（SPS控制器）上注冊最多50個最多50段（線）的程序，因此您可以通過簡單的操作調(diào)用并執(zhí)行所需的加工程序。除了創(chuàng)建程序外，您還可以將執(zhí)行過程的各種數(shù)據(jù)保存為 CSV 格式，因此您只需主機即可完成所有操作，而無需依賴外部 PC。
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